双倾角镀膜仪
双倾角镀膜仪可以在不同角度下进行薄膜沉积，适用于特殊结构和异质结构的制备。设备具有精确的角度控制和稳定的沉积速率。
主要应用：可用于制备各类功能薄膜和器件结构。
技术参数：离子束刻蚀室最佳真空：≤6×10-8 mbar，超高真空电子束蒸发室最佳真空：≤9×10-10 mbar，氧化腔体最佳真空：≤8×10-9 mbar，离子束刻蚀室& 蒸发腔体内样品托旋转速度：Up to 10 rpm，离子束刻蚀室& 蒸发腔体内样品托旋转角度可重复性：0.2° or better，离子束刻蚀室& 蒸发腔体内样品托旋转角度范围：0°-330°，离子束刻蚀室& 蒸发腔体内样品托旋转角度精度：0.02° or better，镀膜均匀性：优于+/-3%，刻蚀均匀性：优于+/-3%
