无掩膜光刻机
MA6是一款高精度双面光刻机，具有双面对准功能，适用于微机械加工、集成电路制造等领域。设备具有良好的对准精度和曝光均匀性。
技术参数：分辨率：0.4um 0.6um 1.0um 2.0um 5.0um，曝光光源：365nm 405nm，基片尺寸：最大φ230mm，曝光面积：最大8英寸，对准及套刻精度：±0.5um
发布时间：2025-04-03 来源：物理学院 编辑： 浏览次数：13次
无掩膜光刻机
MA6是一款高精度双面光刻机，具有双面对准功能，适用于微机械加工、集成电路制造等领域。设备具有良好的对准精度和曝光均匀性。
技术参数：分辨率：0.4um 0.6um 1.0um 2.0um 5.0um，曝光光源：365nm 405nm，基片尺寸：最大φ230mm，曝光面积：最大8英寸，对准及套刻精度：±0.5um
